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玻璃上片切割一体机来的清洗方法有哪些?

2020-07-17 17:01:00

很多用户发现,随着使用时间的延长玻璃上片切割一体机出现的问题也越来越多,而且也越来越难以解决,比如他们在使用过程中遇到的清洗的问题,给他们带来了很大的困扰,不知道该如何解决,因此特来向我们寻求帮助。今天小编就将查阅的部分关于这方面的知识与大家共同探讨一下,希望能给广大客户朋友们带来启发与帮助,让大家对玻璃上片切割一体机有一个更深层次的了解。
玻璃上片切割一体机在行业中,起到了很大的作用,该设备的使用大大的缩短了所用的时间,而且还提高了效率给大家带来了更好的体验。对于玻璃上片切割一体机来说的清洗也是很重要的环节。下面和小编一起来看一下吧。
简单的清洗剂只能清除表面污垢,但却无法清洗研磨粉等无机物;半水基清洗剂则不同,不但可以清洗沥青等有机污染物,还对研磨粉等无机物有良好的清洗效果,从而大大减轻了后续清洗单元中水基清洗剂的清洗压力。半水基清洗剂的特点是挥发速度很慢,气味小。采用半水基清洗剂清洗的设备在第一个清洗单元中无需密封冷凝和蒸馏回收装置。但由于半水基清洗剂粘度较大,并且对后续工序使用的水基清洗剂有乳化作用,所以第二个操作是水漂洗,并且最好将其设为流水漂洗。国内应用此种工艺的企业不多,其中一个原因是半水基清洗剂多为进口,价格比较昂贵。从水基清洗单元开始,半水基清洗工艺同溶剂清洗工艺基本相同。在此不再赘述。玻璃上片切割一体机两种清洗方式的比较溶剂清洗是比较传统的方法,其优点是清洗速度快,效率比较高,溶剂本身可以不断蒸馏再生,循环使用;但缺点也比较明显,由于光学玻璃的生产环境要求恒温恒湿,均为封闭车间,溶剂的气味对于工作环境多少都会有些影响,尤其是使用不封闭的半自动清洗设备时。

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